[发明专利]光雕片聚焦误差信号校正方法无效
| 申请号： | 200910175906.6 | 申请日： | 2009-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN102024467A | 公开（公告）日： | 2011-04-20 |
| 发明（设计）人： | 赖俊文;黄伟庭;郭起祥 | 申请（专利权）人： | 广明光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B7/09 | 分类号： | G11B7/09 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 史新宏 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种光雕片聚焦误差信号校正方法，移动光学读取头至聚焦参考面；利用径向电压移动物镜至预定个校正位置，进行聚焦操作，寻找最佳增益值校正各校正位置聚焦误差信号的不对称性，并记录径向电压及其最佳增益值；根据记录的径向电压及最佳增益值，近似最佳增益值曲线；根据驱动物镜的径向电压，由最佳增益值曲线内外插取得最佳增益值，以校正光雕片聚焦误差信号的不对称性。 | ||
| 搜索关键词： | 光雕片 聚焦 误差 信号 校正 方法 | ||
【主权项】：
一种光雕片聚焦误差信号校正方法，其步骤包含：(1)设定聚焦参考面；(2)移动光学读取头至该聚焦参考面；(3)利用径向电压移动物镜至预定个校正位置，进行聚焦操作且寻找最佳增益值校正各校正位置聚焦误差信号的不对称性，并记录各校正位置径向电压及最佳增益值；(4)根据记录的径向电压及最佳增益值，近似最佳增益值曲线；及(5)根据驱动物镜的径向电压，由最佳增益值曲线取得最佳增益值，校正光雕片聚焦误差信号的不对称性。
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