[发明专利]灰色调掩模坯、灰色调掩模及制品加工标识或制品信息标识的形成方法有效
申请号: | 200910160207.4 | 申请日: | 2009-07-30 |
公开(公告)号: | CN101650527A | 公开(公告)日: | 2010-02-17 |
发明(设计)人: | 深谷创一;金子英雄 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F1/14 | 分类号: | G03F1/14 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王 健 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 灰色调掩模坯,其在透明基板上,由具有互不相同的蚀刻特性的膜形成半透光膜和遮光膜,半透光膜及遮光膜在曝光光的波长下的反射率均小于等于30%,形成在比曝光光的波长长的波长侧的规定波长下的半透光膜和遮光膜的反射率差,使其大于在曝光光的波长下的反射率差,并且半透光膜和遮光膜在制成灰色调掩模时,通过从灰色调掩模的正反面的任一侧对半透光部和遮光部照射上述规定波长的光,根据两者的反射率差能识别半透光部和遮光部。即便是在用半透光膜和遮光膜形成制品加工标识和制品信息标识的情况下,也能通过除去遮光膜或半透光膜中任一个的一方的平版印刷工序形成标识,能形成利用规定的读取波长的光,可利用反射光读取的标识。 | ||
搜索关键词: | 色调 掩模坯 制品 加工 标识 信息 形成 方法 | ||
【主权项】:
1.灰色调掩模坯,是成为灰色调掩模的原材料的灰色调掩模坯,该灰色调掩模具有透光部、遮光部和半透光部,上述遮光部以对曝光不做贡献的程度对曝光光进行遮光,上述半透光部对于曝光光,具有比上述透光部的透射率低且比上述遮光部的透射率高的透射率,并且具有对曝光做出贡献的透射率,其特征在于:在透明基板上形成用于形成上述半透光部的半透光膜和用于形成上述遮光部的遮光膜;上述半透光膜和遮光膜由具有互不相同的蚀刻特性的膜形成;上述半透光膜及遮光膜在曝光光的波长下的反射率均小于等于30%;形成在比曝光光的波长长的波长侧的规定波长下的上述半透光膜和遮光膜的反射率差,使其大于在曝光光的波长下的反射率差;并且形成上述半透光膜和遮光膜,以使得将灰色调掩模坯制成灰色调掩模时,通过从灰色调掩模的正反面的任一侧对上述半透光部和遮光部照射上述规定波长的光,根据两者的反射率差能识别上述半透光部和遮光部。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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