[发明专利]真空溅镀设备的旋转靶装置无效
| 申请号： | 200910160063.2 | 申请日： | 2009-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN101956169A | 公开（公告）日： | 2011-01-26 |
| 发明（设计）人： | 黄泳钊;郑博仁;许建志 | 申请（专利权）人： | 北儒精密股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京邦信阳专利商标代理有限公司 11012 | 代理人： | 王昭林;崔华 |
| 地址： | 中国台湾台南*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种真空溅镀设备的旋转靶装置，是容置在该真空溅镀设备的一个腔体中，该旋转靶装置包含一个靶管座、一个容置在该靶管座中且可绕该靶管座的一中心轴线转动的磁铁座，以及一个分度盘座。该分度盘座是可转动地设置在该靶管座的一端面处，并连结该磁铁座以带动其转动。利用该分度盘座能控制该磁铁座摆动，以简易、准确地调整该磁铁座的角度位置，而能溅镀成形出均匀度佳的高质量薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 设备 旋转 装置 | ||
【主权项】：
一种真空溅镀设备的旋转靶装置，是容置在所述真空溅镀设备的一个腔体中，并包含一个靶管座，以及一个容置在所述靶管座中的磁铁座；其特征在于：所述真空溅镀设备的旋转靶装置还包含一个分度盘座，所述分度盘座是可转动地设置在所述靶管座的一端面处且连结所述磁铁座，所述磁铁座是可绕所述靶管座的一中心轴线转动地容置在所述靶管座中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北儒精密股份有限公司，未经北儒精密股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200910160063.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
