[发明专利]曝光确定装置和图像处理设备有效

专利信息
申请号: 200910159254.7 申请日: 2009-08-10
公开(公告)号: CN101646021A 公开(公告)日: 2010-02-10
发明(设计)人: 木村贵之 申请(专利权)人: 株式会社电装
主分类号: H04N5/243 分类号: H04N5/243;G06K9/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 朱 胜;陈 炜
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明公开了一种曝光确定装置和图像处理设备。在曝光确定装置中,图像获取单元获取第一图像。第一图像由图像拾取单元以第一曝光拾取。光强度检测单元提取第一图像中的区域并且检测区域中的光强度。基于检测到的每个区域中的光强度,失配区域确定单元确定每个区域是否是失配区域,在所述失配区域中,由于针对区域中的相应一个区域的第一曝光的过度或不足,边缘估计未被检测到。当确定区域中的一个是失配区域时,第二曝光确定单元确定图像拾取单元的第二曝光。第二曝光与失配区域中的光强度相匹配。
搜索关键词: 曝光 确定 装置 图像 处理 设备
【主权项】:
1.一种用于图像拾取单元的曝光确定装置,所述装置包括:图像获取单元,其配置成获取第一图像,所述第一图像由所述图像拾取单元以预先确定的第一曝光拾取;光强度检测单元,其配置成提取所述第一图像中的多个区域并且检测所述多个区域中的每一个区域中的光强度;失配区域确定单元,其配置成基于检测到的所述多个区域中的每一个区域中的光强度,确定所述多个区域中的每一个区域是否是至少一个失配区域,在所述至少一个失配区域中,由于针对所述多个区域中的相应一个区域的所述第一曝光的过度和不足中的任何一种,边缘估计未被检测到;以及第二曝光确定单元,其配置成当确定所述多个区域中的至少一个区域是所述至少一个失配区域时,确定所述图像拾取单元的第二曝光,所述第二曝光与所述至少一个失配区域中的光强度匹配。
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