[发明专利]用于悬浮抛光的基盘无效
| 申请号： | 200910154116.X | 申请日： | 2009-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN101708592A | 公开（公告）日： | 2010-05-19 |
| 发明（设计）人： | 文东辉;吴昊;牟肇宇 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04 |
| 代理公司： | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人： | 王兵;王利强 |
| 地址： | 310014 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种用于悬浮抛光的基盘，包括基盘本体，所述基盘本体和研磨盘之间设有工作间隙，所述基盘本体呈圆环，其特征在于：在所述基盘本体的底部设有楔形槽，所述楔形槽呈径向布置，所述楔形槽的外圆端与所述基盘本体的底面相接，所述楔形槽的内圆端内凹，多个楔形槽沿着圆周方向等弧度间隔地分布，所述多个楔形槽的倾斜角相同。本发明提供一种能有效去除微小划痕、提高粗糙度精度的用于悬浮抛光的基盘。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 悬浮 抛光 | ||
【主权项】：
一种用于悬浮抛光的基盘，包括基盘本体，所述基盘本体和研磨盘之间设有工作间隙，所述基盘本体呈圆环，其特征在于：在所述基盘本体的底部设有楔形槽，所述楔形槽呈径向布置，所述楔形槽的外圆端与所述基盘本体的底面相接，所述楔形槽的内圆端内凹，多个楔形槽沿着圆周方向等弧度间隔地分布，所述多个楔形槽的倾斜角相同。
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