[发明专利]光刻设备有效
| 申请号： | 200910147536.5 | 申请日： | 2009-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN101609267A | 公开（公告）日： | 2009-12-23 |
| 发明（设计）人： | V·普若斯耶特佐夫;S·拉尔巴哈朵尔辛;S·穆萨;李贤宇 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备以及一种用于浸没式光刻设备的衬底平台，所述浸没式光刻设备被设置以将图案化的辐射束从图案形成装置投影到衬底上，所述衬底平台被构建以保持所述衬底并且包括用于感测所述图案化的辐射束的至少一个传感器，所述传感器包括具有面对入射的辐射束的前侧和与所述前侧相对的后侧的至少部分透射层，其中，所述后侧设置有经受透射穿过所述层的辐射束的至少一个传感器标记。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种浸没式光刻设备的衬底平台，所述浸没式光刻设备被设置以将图案化的辐射束从图案形成装置投影到衬底上，所述衬底平台被构造以保持所述衬底并且包括用于感测所述图案化的辐射束的至少一个传感器，所述传感器包括具有面对入射的辐射束的前侧和与所述前侧相对的后侧的至少部分透射层，其中，所述后侧设置有至少一个传感器标记，所述传感器标记经受透射穿过所述层的辐射束。
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