[发明专利]光学元件阵列片、显示装置及其制造方法有效
| 申请号： | 200910128541.1 | 申请日： | 2009-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN101533113A | 公开（公告）日： | 2009-09-16 |
| 发明（设计）人： | 广谷务;重村幸治 | 申请（专利权）人： | NEC液晶技术株式会社 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 孙志湧;安 翔 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及光学元件阵列片、显示装置及其制造方法。光学元件阵列片设有：第一区域，其中布置有由以规定周期布置的多个光学元件形成的光学元件阵列；第二区域，形成在第一区域的端部处并且具有与第一区域的表面形状不同的表面形状；以及形成在第一区域和第二区域的边界处的谷部。该谷部的在第二区域侧的侧壁相对于以谷部的底部作为基点的、沿着光学元件阵列的厚度方向延伸的基准线倾斜地形成。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 阵列 显示装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种光学元件阵列片，包括：第一区域，其中布置有由以规定周期布置的多个光学元件形成的光学元件阵列；第二区域，形成在所述第一区域的端部处并且具有与所述第一区域的表面形状不同的表面形状；以及谷部，形成在所述第一区域和所述第二区域的边界处；其中所述谷部的在所述第二区域侧的侧壁相对于以所述谷部的底部作为基点的、沿着所述光学元件阵列的厚度方向延伸的基准线倾斜地形成。
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