[发明专利]基于光子筛的激光直写光刻系统

摘要

基于光子筛的激光直写光刻系统，是由曝光光源(1)、透镜(2)、空间滤波装置(3)、均匀准直透镜组(4)、反射镜(5)、光子筛(6)、光刻胶(7)、基片(8)、精密工件台(9)组成。激光光源经透镜、空间滤波、均匀准直透镜组后成为均匀准直的平行光，照射到光子筛上，光子筛具有良好的聚焦能力，在涂有光刻胶的基片上聚焦。基片放置在X、Y精密工件台上，利用光子筛与基片之间的相对运动来实现所需的光刻图形。本发明具有很好的工艺兼容性，不需改动整个系统的结构，只需将聚焦元件改为光子筛器件，就可用传统的i线、g线激光直写光刻系统实现纳米量级的分辨力。若在此基础上再缩短曝光光源的波长，则可实现更高的分辨力，以极低的成本实现纳米量级图形的制作。

主权项

1、基于光子筛的激光直写光刻系统，其特征在于包括：曝光光源(1)、透镜(2)、空间滤波装置(3)、均匀准直透镜组(4)、反射镜(5)、光子筛(6)、光刻胶(7)、基片(8)和扫描工件台(9)组成；曝光光源(1)经透镜(2)聚焦后，经过空间滤波装置(3)、均匀准直透镜组(4)后成为均匀准直的平行光，然后由反射镜(5)反射到光子筛(6)上，光子筛良好的聚焦能力，在放置在扫描工件台(9)上并涂有光刻胶(7)的基片(8)上聚焦，利用光子筛与基片之间的相对运动来实现所需的光刻图形。