[发明专利]一种基于SPP的大面积干涉光刻技术

摘要

本发明提供了一种基于表面等离子体激元(SPP)的大面积干涉光刻技术，它是用两宽束光源照射高折射率的介质层，通过衰减全内反射耦合模式激发金属表面的SPP，SPP之间发生相互干涉，从而在抗蚀剂中形成大面积周期性的纳米图形。由于SPP具有近场增强的作用，因此图形具有良好的对比度；与此同时，SPP具有波长短的特点，所以能获得非常高的空间分辨率，能实现超衍射极限的纳米线条。相对于传统纳米光刻技术，本发明技术光刻成本低、可大面积曝光、不需要复杂昂贵的高数值孔径光学成像系统，在极大规模集成电路和新型光、电子纳米结构器件制作上具有广阔的应用前景。

主权项

一种基于SPP的大面积干涉光刻技术，通过传统衰减全内反射耦合模式的Kretschmann结构装置来加以实现。两宽束TM光对称地入射到高射率棱镜的表面，进入到棱镜里面后，满足动量匹配条件下，在金属下表面产生SPP干涉，形成高分辨率的周期性纳米图形。