[发明专利]光刻机扫描曝光系统及其扫描曝光方法有效
| 申请号： | 200910046485.7 | 申请日： | 2009-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN101482705A | 公开（公告）日： | 2009-07-15 |
| 发明（设计）人： | 张俊;罗鸣 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈 蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种光刻机扫描曝光系统，包括光源以及沿着光源出射光束形成的光路依次排列的柱面镜、变焦镜组、光学均匀器、耦合光组、掩模板、物镜、工件台，在所述变焦镜组和光学均匀器之间设置有光束旋转镜组，所述光束旋转镜组由若干组光学元件组成。扫描曝光时，先对曝光场区域扫描曝光后，将所述光束旋转镜组移入所述光路中，再次对曝光场区域扫描曝光，完成扫描曝光后移开所述光束旋转镜组，改善了曝光场Y方向的剂量均匀性，又能改善X方向的剂量均匀性，从而改善曝光剂量的系统性能，提高光刻线宽的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 扫描 曝光 系统 及其 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种光刻机扫描曝光系统，包括光源以及沿着光源出射光束形成的光路依次排列的柱面镜、变焦镜组、光学均匀器、耦合光组、掩模板、物镜、工件台，其特征在于：在所述变焦镜组和光学均匀器之间设置有光束旋转镜组。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司，未经上海微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200910046485.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：基于PLC设计的动态羽绒清洗系统
- 下一篇：一种减小OPC模型残余误差的方法
