[发明专利]一种光学成像薄膜有效

专利信息
申请号: 200910025423.8 申请日: 2009-03-04
公开(公告)号: CN101526672A 公开(公告)日: 2009-09-09
发明(设计)人: 楼益民;申溯;王辉;陈林森 申请(专利权)人: 苏州苏大维格光电科技股份公司;苏州大学;浙江师范大学
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 代理人: 陶海锋
地址: 215123江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种光学成像薄膜,包括成像元件和遮光元件,其特征在于:所述成像元件和遮光元件为薄膜结构,所在的平面相互平行,其中,所述成像元件包括至少两层微透镜阵列,所述遮光元件位于成像系统的入瞳或出瞳位置,遮光元件上设有孔径光阑阵列,每一孔径光阑与各微透镜阵列中的对应的微透镜单元构成一个成像通道,各成像通道符合综合成像条件,在所述由成像元件和遮光元件构成的薄膜结构的至少一个表面上,涂布有粘接层。本发明利用微透镜阵列以及光阑阵列等微型元件构成成像系统,具有体积小,质量轻,适于批量生产,制作成本低等优点;可以方便地粘贴或者吸附于各种图像、显示器等物体的表面,形成相应的光学成像效果。
搜索关键词: 一种 光学 成像 薄膜
【主权项】:
1.一种光学成像薄膜,包括成像元件和遮光元件,其特征在于:所述成像元件和遮光元件为薄膜结构,所在的平面相互平行,其中,所述成像元件包括至少两层微透镜阵列,所述遮光元件包括位于成像系统的入瞳或出瞳位置的孔径光阑阵列,每一孔径光阑与各微透镜阵列中的对应的微透镜单元构成一个成像通道,各成像通道符合综合成像条件,在所述由成像元件和遮光元件构成的薄膜结构的至少一个表面上,涂布有粘接层。
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