[发明专利]连续地直接写的光刻技术

摘要

一种光刻系统包括：光源、空间光调制器、成像光学器件和相对于空间光调制器连续地移动光敏衬底的装置。该空间光调制器包括至少一个阵列的可单独切换元件。空间光调制器被连续地照射并且空间光调制器的图像连续地投影在衬底上；随后，图像恒定地移过衬底的表面。在图像移过表面的同时，空间光调制器的元件被切换以使在衬底的表面的像素从空间光调制器的多个元件中依次地接收能量计量，由此在衬底表面上形成潜像。成像光学器件被构造成将空间光调制器的模糊图像投影在衬底上，实现子像素分辨率边缘布置。

主权项

1. 一种操作用于对衬底进行构图的基于空间光调制器的光刻工具的方法，包括：在所述衬底表面上限定像素的区域阵列，所述像素的尺寸和构造对应于所述空间光调制器中的可单独切换元件的投影间隔和构造；对所述衬底上的每个像素指定剂量值，所述剂量是根据设计数据文件中的特征图案计算的；将用于所述衬底上的每个像素的所述剂量值分解为代表每个时钟周期所述空间光调制器的每个元件的状态的值序列，所述元件具有至少两个状态，其中第一状态允许光到达所述衬底，而第二状态阻止光到达所述衬底；将所述元件状态值装入空间光调制器存储器；照射所述空间光调制器；将所述空间光调制器的图像投影到所述衬底上，所述投影是由位于所述空间光调制器和所述衬底之间的投影光学器件实施的；每个时钟周期根据所述空间光调制器存储器中的所述值将所述空间光调制器的所述元件切换一次；以及在每个时钟周期期间，将所述衬底和所述投影图像彼此相对地位移与所述像素之间的所述间隔相等的距离；其中所述衬底上的像素从所述空间光调制器的多个元件依次接收能量剂量。