[发明专利]图案描绘装置及图案描绘方法无效

专利信息
申请号: 200910006446.4 申请日: 2009-02-18
公开(公告)号: CN101520610A 公开(公告)日: 2009-09-02
发明(设计)人: 井上正雄;小八木康幸 申请(专利权)人: 大日本网屏制造株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 马少东;徐 恕
地址: 日本京都*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供一种图案描绘装置及图案描绘方法,目的在于即使在以具有多个描绘对象区域的基板为对象时也能够减少曝光扫描的次数,并能够在感光材料上容易地描绘多种规则图案和宽度。在曝光头(30a~30d)分别对第一扫描区域(As1)至第四扫描区域(As4)进行曝光扫描时,预先在掩模上形成宽度与各扫描区域的描绘对象区域的宽度分别对应的单位图案组(SLG)。结果,即使在一个扫描区域(As)内包含一个扫描对象区域(At)的一部分,也不需要像以往那样使用各种机构进行调整,并且,即使在一个扫描区域内包含相邻的两个扫描对象区域各自的一部分(即在一个扫描区域中包含整个间隙区域),也不需要对同一扫描区域进行两次曝光扫描。
搜索关键词: 图案 描绘 装置 方法
【主权项】:
1. 一种图案描绘装置,在形成有感光材料的基板的多个描绘对象区域分别描绘规则图案,其特征在于,具有:光源,掩模装置,其形成有单位图案组,上述单位图案组使来自上述光源的光通过,在上述基板上形成作为规定的像的一部分的单位像,并且上述单位图案组的多个开口部在副扫描方向上规则地排列,多个曝光装置,将通过上述掩模装置的上述开口部的光间歇地照射到上述基板上的感光材料上,从而对图案进行曝光,主扫描装置,其使上述基板相对于上述曝光装置在主扫描方向上相对移动,副扫描装置,其使上述基板相对于上述曝光装置在副扫描方向上相对间歇地移动,掩模移动装置,其使上述掩模装置在主扫描方向及/或副扫描方向上移动,以使上述掩模装置的上述开口部配置在规定的位置,上述单位图案组在上述掩模装置上至少形成两种以上,对应于由上述主扫描装置及/或上述副扫描装置驱动的上述基板的移动,通过上述掩模移动装置来移动上述掩模装置,在形成于上述掩模装置上的上述单位图案组中选择一个进行曝光。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大日本网屏制造株式会社,未经大日本网屏制造株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910006446.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top