[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200910005873.0 | 申请日： | 2005-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN101487980A | 公开（公告）日： | 2009-07-22 |
| 发明（设计）人： | J·-G·C·范德托尔恩;C·A·胡根达姆 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 例如为了在不同基底的曝光之间方便地移动基底，使用致动的封闭板提供基底、基底台或上述两者作为限制液体的光刻装置中的空间边界的一部分，而不会例如破坏限制液体的密封。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种光刻投影装置，包括：配置成保持基底的基底台；配置成把带图案的辐射光束投影到基底上的投影系统；液体限制结构，所述液体限制结构被配置成把液体限制在空间中，所述空间为投影系统与基底、基底台或上述两者之间的空间，基底、基底台或上述两者配置成形成所述空间的边界的一部分；以及封闭板，该封闭板配置成当未扰动液体、液体限制结构或上述两者而移动时，替代基底、基底台或上述两者构成所述空间的边界的一部分，其中，所述封闭板被构造并设置成用于基底台的力测量系统。
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