[发明专利]光刻设备和校准方法有效
| 申请号： | 200910003815.4 | 申请日： | 2009-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN101504511A | 公开（公告）日： | 2009-08-12 |
| 发明（设计）人： | M·W·M·范德维基斯特;G·安格利斯;R·G·克拉沃尔;M·R·汉姆尔斯;B·T·沃哈尔;P·霍埃克斯卓 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种台系统校准方法，其包括：响应设定点信号相对于编码器栅格移动所述台，并且通过传感器头与所述编码器栅格协作操作测量所述台的位置。台的位置通过台控制器进行控制。寄存表示设定点信号和由所述传感器头所测的台的位置之间的差异的信号。通过表示所述差异的寄存信号校准所述台系统。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 校准 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种台系统校准方法，其包括步骤：a)响应设定点信号，相对于编码器栅格移动台，所述台的位置通过台控制器进行控制；b)在所述移动过程中，通过传感器头与所述编码器栅格协作操作来测量所述台的位置；c)寄存表示设定点信号和由所述传感器头所测的台的位置之间的差异的信号；和d)通过表示所述差异的寄存信号校准所述台系统。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200910003815.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：显影装置、图像形成装置及图像形成方法
- 下一篇：光调制器和光信号产生装置
