[发明专利]用于对光学混浊介质的内部成像的方法和设备无效

专利信息
申请号: 200880114925.1 申请日: 2008-11-03
公开(公告)号: CN101848671A 公开(公告)日: 2010-09-29
发明(设计)人: L·P·巴克;M·C·范比克;M·B·范德马克 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: A61B5/00 分类号: A61B5/00;G01N21/64
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 刘鹏;谭祐祥
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明涉及一种用于对光学混浊介质(40)的内部成像的方法和设备(30,125)。将来自光源(35)的光耦合到混浊介质(40)内。收集作为将来自光源(35)的光耦合(5)到混浊介质(40)内的结果而从混浊介质(40)发出的检测光。同时测量收集的检测光的第一特性和第二特性。接下来,基于测量的特性的第一线性组合和测量的特性的第二线性组合中的噪声相关这一认识,获取所述第一线性组合与所述第二线性组合的比值。
搜索关键词: 用于 光学 混浊 介质 内部 成像 方法 设备
【主权项】:
一种用于对混浊介质(40)的内部成像的方法,包括以下步骤:-将来自光源(35)的照射光耦合(5)到混浊介质(40)内;-在相对于混浊介质(40)的至少一个收集位置(65)处收集(10)从混浊介质(40)发出的检测光,所述检测光作为将照射光耦合(5)到混浊介质(40)内的结果而从混浊介质(40)发出;-同时测量收集的检测光的至少第一特性和第二特性,所述收集的检测光在单个收集位置(65)处被收集;-获取测量的特性的第一线性组合与测量的特性的第二线性组合的比值(25)。
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