[发明专利]纳米压印工艺中用于衬底的对齐系统和方法有效
| 申请号： | 200880025065.4 | 申请日： | 2008-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN101772733A | 公开（公告）日： | 2010-07-07 |
| 发明（设计）人： | P·K·尼玛卡雅拉;B-J·崔 | 申请（专利权）人： | 分子制模股份有限公司 |
| 主分类号： | G03C5/00 | 分类号： | G03C5/00;H01L21/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 刘佳 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种透明的压印模板模具配置有包围有效压印区的光栅。光栅与有效区同时制造，从而相对于光栅准确限定有效区。在工具坐标中，衬底被定位于模板模具之下。传感器系统产生光能束并仅在特定的角窗处接收反射能量，而且它用于定位模板模具。扫描传感器系统以在工具坐标中定位衬底和光栅。以此方式，在工具坐标中相对于衬底确定模板模具的相对位置。然后相对于模板模具准确定位衬底。该系统可用于跟踪相对于衬底的压印图案位置，并确定图案与衬底的同心性。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 压印 工艺 用于 衬底 对齐 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种用于将模板模具与衬底对齐的系统，包括：设置在所述模板模具和所述衬底之上的传感器系统，所述传感器系统产生光能束，并被配置成仅接收从所述衬底和所述模板模具的检测面反射到角窗中的光能部分；以及设置在所述模板模具的有效区周围的光栅，其中所述光栅在对应于预定尺寸增量的间距处具有检测面。
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