[发明专利]有机薄膜清洗用溶剂有效
| 申请号： | 200880020586.0 | 申请日： | 2008-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN101679923A | 公开（公告）日： | 2010-03-24 |
| 发明（设计）人： | 熊泽和久;岛田干也 | 申请（专利权）人： | 日本曹达株式会社 |
| 主分类号： | C11D7/50 | 分类号： | C11D7/50;C11D7/24 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 蒋 亭;苗 堃 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能形成膜成分脱落少的薄膜的清洗用溶剂。该有机薄膜的清洗用溶剂的特征为，通过KOH使正十八烷基三甲氧基硅烷水解缩聚而得到的聚合物在25℃的溶解度为100～400mg/g。该溶剂优选是含有至少1种式(I)所示化合物的芳香族烃系溶剂，特别优选是二乙基苯、Solvesso(注册商标)。如图(I)(式中，各R可以相同或不同，表示C1-C18烷基；n表示2、3或4。) | ||
| 搜索关键词： | 有机 薄膜 清洗 溶剂 | ||
【主权项】：
1.一种有机薄膜的清洗用溶剂，其特征在于，通过KOH使正十八烷基三甲氧基硅烷水解缩聚而得到的聚合物在25℃的溶解度为100～400mg/g。
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