[发明专利]包含氧化胺表面活性剂或污垢渗透剂的组合物无效
申请号: | 200880008707.X | 申请日: | 2008-03-20 |
公开(公告)号: | CN101636143A | 公开(公告)日: | 2010-01-27 |
发明(设计)人: | 霍华德·D·赫顿三世;凯瑟琳·M·于;威廉·J·戈尔;查尔斯·R·德根哈特;阿曼达·V·斯文尼 | 申请(专利权)人: | 宝洁公司 |
主分类号: | A61K8/33 | 分类号: | A61K8/33;A61K8/40;A61K8/46;A61K8/73;A61Q5/02;A61Q5/12 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陈 桉 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明的组合物涉及改善的洗发剂组合物,所述组合物具有约5至约50wt.%的去污表面活性剂组合物;所述去污表面活性剂组合物包含至少一种阴离子表面活性剂、约0.1至约20wt.%的氧化胺,和约0.01至约5wt.%的阳离子聚合物,其中阴离子表面活性剂与氧化胺的摩尔比为约2∶1至约40∶1。本发明的组合物也涉及改善的洗发剂组合物,所述组合物具有约5至约50wt.%的去污表面活性剂组合物、约0.1至约20wt.%的氧化胺、约0.01至约5wt.%的阳离子聚合物、以及约0.1至10wt.%的污垢渗透剂。 | ||
搜索关键词: | 包含 氧化 表面活性剂 污垢 渗透剂 组合 | ||
【主权项】:
1.一种洗发剂组合物,所述洗发剂组合物包含:a.5至50wt.%的去污表面活性剂组合物,所述组合物包含至少一种阴离子表面活性剂;b.0.1至20wt.%的氧化胺;和c.0.01至5wt.%的阳离子聚合物;其中阴离子表面活性剂与氧化胺的摩尔比为2∶1至40∶1。
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