[发明专利]去除光刻设备的元件上的沉积物的方法无效
| 申请号： | 200880007370.0 | 申请日： | 2008-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN101626841A | 公开（公告）日： | 2010-01-13 |
| 发明（设计）人： | R·E·范夫利特;H-J·沃尔玛;A·T·W·凯姆彭;A·霍夫埃斯塔德 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/04 | 分类号： | B08B3/04;B08B3/08;B08B3/10;B08B3/12;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于去除光刻设备的元件(510)上的沉积物的清洁工艺。该方法包括用碱性清洁液(502)(非原位)处理该元件(510)。这样，可以从污染物阻挡件或收集器反射镜上去除锡。特别有益的是，施加电压到该将要被清洁的元件上和/或使用络合剂用于改善锡在清洁液中的溶解。 | ||
| 搜索关键词： | 去除 光刻 设备 元件 沉积物 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于去除光刻设备的元件上的沉积物的清洁工艺，包括用碱性清洁液处理所述元件。
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