[发明专利]低损耗铁氧体及使用其的电子零件有效

专利信息
申请号: 200880004069.4 申请日: 2008-02-06
公开(公告)号: CN101668719A 公开(公告)日: 2010-03-10
发明(设计)人: 田中智;橘武司 申请(专利权)人: 日立金属株式会社
主分类号: C04B35/30 分类号: C04B35/30;H01F1/34;H01F27/255
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 朱 丹
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种低损耗铁氧体,特征是作为主成分含有47.1~49.3摩尔%的Fe2O3、20~26摩尔%的ZnO、6~14摩尔%的CuO、余量为NiO,而且,对于上述主成分100质量%,以SnO2换算,含有0.1~2质量%的Sn,和以Mn3O4换算,含有0.05~2质量%的Mn,平均晶粒直径为0.5~3μm。
搜索关键词: 损耗 铁氧体 使用 电子零件
【主权项】:
1.一种低损耗铁氧体,其特征是,作为主成分,含有47.1~49.3摩尔%的Fe2O3、20~26摩尔%的ZnO、6~14摩尔%的CuO及余量为NiO,而且,相对于上述主成分100质量%,含有以SnO2换算为0.1~2质量%的Sn、和以Mn3O4换算为0.05~2质量%的Mn,平均晶粒直径为0.5~3μm。
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