[发明专利]光学元件成型装置及光学元件成型方法无效
| 申请号： | 200880003193.9 | 申请日： | 2008-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN101600555A | 公开（公告）日： | 2009-12-09 |
| 发明（设计）人： | 细江秀;宫崎岳美;藤井雄一 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 |
| 主分类号： | B29C45/26 | 分类号： | B29C45/26;B29C45/02;B29C45/53;B29C45/58;B29K101/10;B29L11/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 岳雪兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种光学元件成型装置及成型方法，其中无论成型材料性质如何，能够提高运转效率。构成在下模上设保持腔LMb，并且推压活塞PP穿通上模UM进入保持腔LMb之结构，通过上述结构，推压活塞PP直至推压成型材料MM为止不接触液态树脂，所以抑制树脂流入推压活塞PP和贯通孔UMc之间的间隙发生硬化，由此能够抑制由于清扫作业而中断成型动作。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 成型 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学元件成型装置，其特征在于，包括：上模；下模，被配置在所述上模的重力方向下方，与所述上模一起形成成型腔，同时备有保持腔，蓄积被移送到所述成型腔的光学元件成型用树脂材料；推压活塞，穿通所述上模地延伸着，能够在从所述保持腔退避的退避位置和进入所述保持腔内的进入位置之间往复动作；其中，所述保持腔的内周面是向所述上模展开的锥形。
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