[发明专利]抗辐射聚丙烯材料有效

专利信息
申请号: 200880001192.0 申请日: 2008-04-30
公开(公告)号: CN101568607A 公开(公告)日: 2009-10-28
发明(设计)人: M·莫斯格拉夫 申请(专利权)人: 弗纳技术股份有限公司
主分类号: C09D11/02 分类号: C09D11/02
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 朱黎明;周承泽
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 提供一种聚丙烯材料,该材料与单独的全同立构聚丙烯的材料相比提高了抗辐射性。该材料通过使用间规立构聚丙烯形成。全同立构聚丙烯可以是全同立构茂金属或齐格勒-纳塔催化的聚丙烯,并可包含一定量的间规立构聚丙烯。该材料可用于形成能进行辐射处理例如使用辐射进行灭菌过程的各种材料,要强调的是按照要求使研究人员或其他读者能快速确定该技术内容的主题的摘要规定提供该摘要。应理解所提交的内容不用于说明或限制权利要求书的范围或含义。
搜索关键词: 辐射 聚丙烯 材料
【主权项】:
1.一种包含全同立构丙烯聚合物和间同立构丙烯聚合物的掺混物的聚合物材料,其中,所述全同立构丙烯聚合物的分子量分布(Mw/Mn)小于或等于4.0,二甲苯可溶物小于或等于2%,所述聚合物材料提供的SMS织物材料在3-5兆拉德辐射剂量下的纵向伸长强度保留率大于或等于50%。
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