[发明专利]非水电解质二次电池用活性物质及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200880000769.6 申请日: 2008-03-27
公开(公告)号: CN101548416A 公开(公告)日: 2009-09-30
发明(设计)人: 小摫勉;芳泽浩司;名仓健祐 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H01M4/52 分类号: H01M4/52;H01M4/50
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种非水电解质二次电池用活性物质,其含有含锂过渡金属氧化物,该含锂过渡金属氧化物含有镍及锰,具有氧的最密填充结构。含锂过渡金属氧化物中所含的锂的摩尔数MLi与过渡金属的摩尔数Mt的原子比:MLi/MT大于1.0。含锂过渡金属氧化物具有归属于六方晶的晶体结构,晶体结构的X射线衍射图像具有归属于(003)面的峰P003、和归属于(104)面的峰P104。随着含锂过渡金属氧化物对锂的嵌入及脱嵌,峰P003和峰P104的积分强度比:I003/I104在0.7~1.5的范围内的区域中可逆地变化,积分强度比的变化为直线性且连续的变化。
搜索关键词: 水电 二次 电池 活性 物质 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种非水电解质二次电池用活性物质,其含有含锂过渡金属氧化物,该含锂过渡金属氧化物含有镍及锰,且具有氧的最密填充结构;所述含锂过渡金属氧化物中所含的锂的摩尔数MLi与过渡金属的摩尔数Mt的原子比:MLi/MT为1.0以上;所述含锂过渡金属氧化物具有归属于六方晶的晶体结构,所述晶体结构的X射线衍射图像具有归属于(003)面的峰P003、和归属于(104)面的峰P104;伴随着所述含锂过渡金属氧化物对锂的嵌入及脱嵌,峰P003和峰P104的积分强度比:I003/I104在0.7~1.5的范围内的区域中可逆地变化;所述积分强度比的变化为直线性且连续的变化。
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