[实用新型]镀膜玻璃用真空磁控镀膜室有效
| 申请号： | 200820216200.0 | 申请日： | 2008-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN201326011Y | 公开（公告）日： | 2009-10-14 |
| 发明（设计）人： | 赵子东 | 申请（专利权）人： | 苏州新爱可镀膜设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 张家港市高松专利事务所 | 代理人： | 黄春松 |
| 地址： | 215625江苏省张家港*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种抽气均匀的镀膜玻璃用真空磁控镀膜室，包括：腔室，在腔室内设置有三个隔离通道，隔离通道将腔室分割成四个区域，在每个隔离通道上设置有玻璃输送通道，在构成隔离通道的两侧墙板上以及构成玻璃输送通道的上、下隔板上开设有抽气孔，在腔室内还设置有两个抽气通道，抽气通道分布在隔离通道两端并与隔离通道内的空腔相通，抽气通道的两端与腔室上的抽气口相通。本实用新型适合于真空镀膜玻璃的生产领域。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 玻璃 真空 | ||
【主权项】：
1、镀膜玻璃用真空磁控镀膜室，包括：腔室，其特征在于：在腔室内设置有三个隔离通道，隔离通道将腔室分割成四个区域，在每个隔离通道上设置有玻璃输送通道，在构成隔离通道的两侧墙板上以及构成玻璃输送通道的上、下隔板上开设有抽气孔，在腔室内还设置有两个抽气通道，抽气通道分布在隔离通道两端并与隔离通道内的空腔相通，抽气通道的两端与腔室上的抽气口相通。
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