[实用新型]直拉单晶炉用石墨坩埚有效

专利信息
申请号: 200820156013.8 申请日: 2008-11-27
公开(公告)号: CN201317827Y 公开(公告)日: 2009-09-30
发明(设计)人: 施美生;戴士隽 申请(专利权)人: 上海九晶电子材料股份有限公司
主分类号: C30B15/10 分类号: C30B15/10
代理公司: 上海天翔知识产权代理有限公司 代理人: 陈学雯
地址: 201617*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种直拉单晶炉用石墨坩埚,包括石墨坩埚本体,所述石墨坩埚本体包括三瓣块体,石墨坩埚内壁的三瓣块体的接口处的弯曲部为“R”部,其特征在于:所述石墨纸覆盖于三瓣接口处“R”部的位置。所述石墨纸的面积大于接口处“R”部;所述石墨纸的面积与石墨坩埚的大小相匹配。本实用新型延长三瓣埚的使用寿命20%以上;增加单晶硅产量2%以上,因避免了在生产过程中三瓣埚开裂而使单晶生长终止现象的发生;具有操作简单、改装方便、成本低廉的优点。
搜索关键词: 直拉单晶炉用 石墨 坩埚
【主权项】:
1、一种直拉单晶炉用石墨坩埚,包括石墨坩埚本体,所述石墨坩埚本体包括三瓣块体,石墨坩埚内壁的三瓣块体的接口处的弯曲部为“R”部,其特征在于:所述石墨坩埚本体内壁位于三瓣块体的接口处“R”部的位置覆盖有石墨纸。
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