[实用新型]用于转轴的止挡结构有效

专利信息
申请号: 200820134118.3 申请日: 2008-09-12
公开(公告)号: CN201255176Y 公开(公告)日: 2009-06-10
发明(设计)人: 彭志煌;蔡祐轩 申请(专利权)人: 兆利科技工业股份有限公司
主分类号: F16C11/10 分类号: F16C11/10
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 梁爱荣
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 实用新型为一种用于转轴的止挡结构,其包括:一旋转件,其轴向开设一轴孔,该轴孔侧面周缘突设一凸块,其前方具有一直立前挡缘,该前挡缘后方延伸一向上倾斜的斜削面,其邻接后端最高的后挡止;以及一定位件,邻接于该旋转件,其轴向开设一穿孔,且周缘设有一凸缘部,该凸缘部位于凸块的移动范围内;当旋转件转动,使其前挡缘抵住该凸缘部,即为开合角度的止限;另当施力超过该凸块的设定值,该凸缘部底面会越过该前挡缘,并爬上该斜削面,用以将该施力过大所形成的碰撞力加以分散。
搜索关键词: 用于 转轴 结构
【主权项】:
1. 一种用于转轴的止挡结构,其特征在于,包括:一旋转件,其轴向开设一轴孔,该轴孔侧面周缘突设一凸块,其前方具有一直立前挡缘,该前挡缘后方延伸一向上倾斜的斜削面,其邻接后端最高的后挡止;以及一定位件,邻接于该旋转件,其轴向开设一穿孔,且周缘设有一凸缘部,该凸缘部位于凸块的移动范围内;当旋转件转动,使其前挡缘抵住该凸缘部,即为开合角度的止限;另当施力超过该凸块的设定值,该凸缘部底面会越过该前挡缘,并爬上该斜削面,用以将该施力过大所形成的碰撞力加以分散。
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