[实用新型]抛光垫有效
| 申请号： | 200820133824.6 | 申请日： | 2008-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN201300373Y | 公开（公告）日： | 2009-09-02 |
| 发明（设计）人： | 邱汉郎;陈少禹;郑裕隆 | 申请（专利权）人： | 贝达先进材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24D13/14 | 分类号： | B24D13/14;B24B29/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 梁爱荣 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种抛光垫，特别是涉及一种抛光垫的抛光面槽底的宽度为0mm的抛光垫。此抛光垫具有一抛光面，并具有至少一沟槽设于抛光面上，其中沟槽具有一槽口与一槽底，其特征在于抛光面的槽底的宽度为0mm，因此进行于抛光作业时，悬浮于抛光液中的研磨颗粒不易沉积于槽底，避免待磨物受沉积物的刮伤而受损。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 | ||
【主权项】：
1、一种抛光垫，该抛光垫具有一抛光面，具有至少一沟槽设于该抛光面上，其中该沟槽具有一槽口与一槽底，其特征在于，该抛光面的槽底的宽度为0mm。
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