[实用新型]一种提高单晶硅炉晶体生长速度的装置在审

专利信息
申请号: 200820109320.0 申请日: 2008-07-18
公开(公告)号: CN201224778Y 公开(公告)日: 2009-04-22
发明(设计)人: 朱仁德;刘旭峰 申请(专利权)人: 北京天能运通晶体技术有限公司
主分类号: C30B15/00 分类号: C30B15/00
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 代理人: 闫立德
地址: 100034北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型属于一种提高单晶硅炉晶体生长速度的装置,采用在石英坩埚上端的炉膛内设有上下端开口的导流筒,导流筒由导流内筒和导流外筒所组成,导流内筒呈倒圆锥形,导流外筒呈圆筒形,导流外筒下周边向内收缩与导流内筒外周边连成一体,导流内筒上周边与导流外筒上周边连成一体并卡固在下保温盖上,导流内筒和导流外筒之间设有隔热材料层。本实用新型能有效保证炉膛内两种温度的互相衔接,可大幅度提高炉膛内晶体生长速度,还有提高硅晶质量,降低制作成本的优点。
搜索关键词: 一种 提高 单晶硅 晶体生长 速度 装置
【主权项】:
1、一种提高单晶硅炉晶体生长速度的装置,主要由炉体、炉膛、石墨埚、石英坩埚、石墨埚杆和保温层所组成,其特征在于:在石英坩埚上端的炉膛内设有上下端开口的导流筒,导流筒由导流内筒和导流外筒所组成,导流内筒呈倒圆锥形,导流外筒呈圆筒形,导流外筒下周边向内收缩与导流内筒外周边连成一体,导流内筒上周边与导流外筒上周边连成一体并卡固在下保温盖上,导流内筒和导流外筒之间设有隔热材料层。
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