[实用新型]一种低能电子加速器束下装置反应器无效

专利信息
申请号: 200820107509.6 申请日: 2008-03-31
公开(公告)号: CN201174259Y 公开(公告)日: 2008-12-31
发明(设计)人: 朱南康;钱卫平;王洪;杨明 申请(专利权)人: 苏州中核华东辐照有限公司
主分类号: G21K5/00 分类号: G21K5/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215200江苏省吴江市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种低能电子加速器束下装置反应器,涉及辐照加工领域。包括内部设有溢流辐照槽1的回收槽2,回收槽2设有回收槽支架3,回收槽2底部设有出液管5,回收槽2底部设有供进液管4穿过的通孔,溢流辐照槽1底部设有进液管4,其特征在于:在溢流辐照槽1内设有通过支架7固定在进液管4管口正上方的液面稳定板6,液面稳定板6上设有过液孔8。本实用新型有效地避免被辐照流体的辐照液面上下波动和被辐照流体滞留,改善被辐照流体接受电子束的均衡性,避免被辐照流体因局部接受剂量过大而焦化,可以获得更好的辐照效果,产品结构简单,设计合理,成本低廉,效果明显。
搜索关键词: 一种 低能 电子 加速器 装置 反应器
【主权项】:
1.一种低能电子加速器束下装置反应器,包括内部设有溢流辐照槽(1)的回收槽(2),回收槽(2)设有回收槽支架(3),回收槽(2)底部设有出液管(5),回收槽(2)底部设有供进液管(4)穿过的通孔,溢流辐照槽(1)底部设有进液管(4),其特征在于:在溢流辐照槽(1)内设有通过支架(7)固定在进液管(4)管口正上方的液面稳定板(6),液面稳定板(6)上设有过液孔(8),过液孔(8)的孔径为4mm~11mm。
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