[实用新型]模内包射的磁场定位装置无效

专利信息
申请号: 200820107409.3 申请日: 2008-03-26
公开(公告)号: CN201211702Y 公开(公告)日: 2009-03-25
发明(设计)人: 洪胜忠 申请(专利权)人: 高泰科技股份有限公司
主分类号: B29C33/16 分类号: B29C33/16;B29C33/30
代理公司: 北京天平专利商标代理有限公司 代理人: 赵海生
地址: 台湾省台北县五股*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 实用新型公开了一种模内包射的磁场定位装置,系包括有母模和公模所组成,其中该母模设有可容置预设基材的模穴,其模穴的外侧边则设有可受激磁而产生磁场的磁场产生器,当具有导磁性的预设基材置入模穴后,可由已激磁的磁场产生器吸附定位,再将公模与母模接合,此时模块亦伸入于模穴中,续由注料孔使塑料注入模穴内,进而成型于模穴内预设基材的表面处,此方式可减少因预设基材或模穴吸附到杂质或粉尘,而使贴合后预设基材表面产生刮伤或不平整的情况发生,进而使瑕疵品产生的机率降低。
搜索关键词: 模内包射 磁场 定位 装置
【主权项】:
1、一种模内包射的磁场定位装置,系包括有母模和公模所组成,其特征在于:该母模为设有可使预设导磁性基材置入及塑料射出成型之空间的模穴,其模穴的外侧边则设有受到激磁而产生磁场以吸附预设基材的磁场产生器;该公模为设有可伸入于模穴的模块,该模块为穿设有可使塑料注入的注料孔。
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