[发明专利]新型高真空激光镀膜机在审
| 申请号： | 200810242806.6 | 申请日： | 2008-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN101497989A | 公开（公告）日： | 2009-08-05 |
| 发明（设计）人： | 顾啸强 | 申请（专利权）人： | 苏州市万泰真空炉研究所有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/26 | 分类号： | C23C14/26 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215200江苏省吴江市吴江松陵*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 新型高真空激光镀膜机属于热处理行业领域的一种靠激光加热来实现蒸发源蒸发的真空镀膜设备。该设备主要由激光器、钟罩式双塑水冷外壳、真空系统、电控系统、蒸发源坩埚等组成。如图由1激光器，通过折射将高功光束，聚焦照射到蒸发材料的表面，即4坩埚内，从而将镀膜材料升温到沸点挥发，从而达到真空镀膜的目的。图中5连接真空机组。 | ||
| 搜索关键词： | 新型 真空 激光 镀膜 | ||
【主权项】：
在新型高真空状态下，用高功率激光束，聚焦照射到蒸镀材料的表面，使镀膜材料的蒸发源的温度达到沸点，从而来达到蒸膜的目的。
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