[发明专利]一种基于匹配相容性的纹理合成方法无效
申请号: | 200810239424.8 | 申请日: | 2008-12-09 |
公开(公告)号: | CN101441775A | 公开(公告)日: | 2009-05-27 |
发明(设计)人: | 王文成;刘飞彤;黄沛杰;吴恩华 | 申请(专利权)人: | 中国科学院软件研究所 |
主分类号: | G06T15/20 | 分类号: | G06T15/20 |
代理公司: | 北京君尚知识产权代理事务所 | 代理人: | 余功勋 |
地址: | 100190北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于匹配相容性的纹理合成方法,属于计算机算法、计算机图形技术、纹理生成技术领域,该方法包括以下步骤:1)将样本纹理分成可反映其全局性纹理特征的纹理块;2)为每个纹理块生成其相应的匹配相容纹理块集合;3)随机选择一个纹理块,放置在待合成的目标纹理的一个角上,从相应的匹配相容纹理块集合中选择相配的纹理块,开始纹理合成;4)根据已合成部分纹理块逐步地约束生成待合成部分,直至完成目标纹理合成。本发明不需要在线地进行复杂的相似性计算,可极大地减少每次选用纹理块时需要考察的纹理块数量,由此很好地提高纹理合成的速度,能以交互的速度生成1024*1024大小的纹理。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 匹配 相容性 纹理 合成 方法 | ||
【主权项】:
1、一种基于匹配相容性的纹理合成方法,包括以下步骤:1)将样本纹理分成可反映其全局性纹理特征的纹理块;2)为每个纹理块生成其相应的匹配相容纹理块集合;3)随机选择一个纹理块,放置在待合成的目标纹理的一个角上,从相应的匹配相容纹理块集合中选择相配的纹理块,开始纹理合成;4)根据已合成部分纹理块逐步地约束生成待合成部分,直至完成目标纹理合成。
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