[发明专利]等离子体处理设备有效
| 申请号： | 200810222421.3 | 申请日： | 2008-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN101351076A | 公开（公告）日： | 2009-01-21 |
| 发明（设计）人： | 张风港 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H01L21/00;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 魏晓波;逯长明 |
| 地址： | 100016*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种等离子体处理设备，包括内部具有反应腔室的外壳体、设于所述反应腔室中的下电极以及贯穿所述外壳体并支撑所述下电极的悬臂支撑装置；所述悬臂支撑装置枢装于所述外壳体的侧壁且能够在所述外壳体中自转；所述等离子体处理设备进一步包括定位装置，以便可选择地固定所述悬臂支撑装置与所述外壳体的相对位置。本发明所提供的等离子体处理设备省略了将所述下电极自所述反应腔室中取出这一步骤，而该步骤的存在正是现有的等离子体处理设备维护作业过程较为复杂的一个重要原因；因此，本发明所提供的等离子体处理设备显著简化了维护操作，并节省了维护成本以及维护时间，等离子体处理设备的使用效率也得到了显著提高。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 设备 | ||
【主权项】：
1、一种等离子体处理设备，包括内部具有反应腔室的外壳体、设于所述反应腔室中的下电极，以及横向贯穿所述外壳体侧壁的悬臂支撑装置；所述悬臂支撑装置的内端位于所述反应腔室中并支撑所述下电极；其特征在于，所述悬臂支撑装置枢装于所述外壳体的侧壁；所述等离子体处理设备进一步包括定位装置，以便可选择地固定所述悬臂支撑装置与所述外壳体的相对位置。
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