[发明专利]金属表面超疏水有机纳米薄膜的制备方法

摘要

本发明涉及金属表面处理和改性技术领域，特别是指一种于镁、铜或不锈钢金属表面，具有超疏水功能特性的有机纳米薄膜的制备方法。该制备方法采用化学刻蚀与有机镀膜相结合的制备方法，有机镀膜方式可选用恒电位法、恒电流或循环伏安法，镀膜时间为1～60min。本发明制造的致密有机纳米薄膜与蒸馏水的静态接触角大于150°，证实金属表面超疏水功能特性，可用于以大面积金属表面的超疏水改性，特别适用于以金属表面的防污、防锈，可用于微量液体无损耗运输，精密光学器件模具表面处理以增强脱模效果，拓宽金属材料的使用领域。本发明工艺简单、便于操作、效率高、制备周期短、设备要求低，成本低，厚度可控，易于工业化生产制备。

主权项

1、金属表面超疏水有机纳米薄膜的制备方法，其特征在于：本发明采用化学刻蚀与有机镀膜相结合的制备方法，其具体步骤及其工艺条件如下：步骤一：配制有机镀膜电解质溶液选取水溶性含氟三氮杂嗪类有机化合物盐0.5～10mmol/l、碱性支持电解盐0.05～10mol/l，配制成有机镀膜用电解质溶液；步骤二：化学刻蚀对金属表面进行去脂清洗后，进行化学刻蚀至金属表面粗糙，化学刻蚀主要参数为：化学刻蚀剂：HNO3、HF、HCI、H2O2、H2CO3、CH3CH2COOH或H2SO4其中一种或任意两种的混合物，化学刻蚀剂浓度范围为0.01～15mol/l，刻蚀时间为0. 017～20min，刻蚀温度为5～30℃；步骤三：有机镀膜将经化学刻蚀后的金属放入步骤一配制的电解质溶液中有机镀膜，有机镀膜主要参数为：镀膜方式为恒电位法、恒电流或循环伏安法，镀膜时间为1～60min，采用恒电位法时，电压0.5～1.2V vs SCE，采用恒电流法时，电流密度为0.05～20mA/cm2，采用循环伏安法时，循环扫描速率为1～200mV/s，循环次数为1～2次；在金属表面制备出一层具有超疏水功能特性、致密的有机纳米薄膜。