[发明专利]最大可还原性温度降低的氧化锆氧化铈基组合物及其用途有效

专利信息
申请号: 200810212836.2 申请日: 2004-03-17
公开(公告)号: CN101406830A 公开(公告)日: 2009-04-15
发明(设计)人: O·拉尔谢;E·罗阿尔 申请(专利权)人: 罗狄亚电子与催化公司
主分类号: B01J23/10 分类号: B01J23/10;B01J35/10;B01J37/03;B01D53/94;B01J21/06
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 张力更
地址: 法国拉*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明涉及一种其中氧化锆的比例为至少50重量%的基于氧化锆和氧化铈的组合物,它具有至多500℃的最大可还原性温度,以及在500℃下煅烧6小时后至少40m2/g的比表面积,并且其为正方晶相的形式。该组合物通过下述方法获得,在该方法中,利用碱使锆和铈的化合物的混合物沉淀;加热如此获得的包含沉淀物的介质;然后将添加剂添加到由前面步骤获得的介质中,或者添加到分离的沉淀物中,所述添加剂选自阴离子型表面活性剂、非离子型表面活性剂、聚乙二醇、羧酸和它们的盐、以及羧甲基化脂肪醇的乙氧基化物类型的表面活性剂;然后研磨所述沉淀物并且煅烧所述沉淀物。该组合物可被用作催化剂。
搜索关键词: 最大 原性 温度 降低 氧化锆 氧化 组合 及其 用途
【主权项】:
1.一种其中氧化锆的比例为至少50重量%的基于氧化锆和氧化铈的组合物,其特征在于,它具有至多500℃的最大可还原性温度,以及在500℃下煅烧6小时后至少40m2/g的比表面积,并且其为正方晶相的形式。
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