[发明专利]用于纳米压印的真空模压装置无效
申请号: | 200810202317.8 | 申请日: | 2008-11-06 |
公开(公告)号: | CN101393392A | 公开(公告)日: | 2009-03-25 |
发明(设计)人: | 李以贵;张冠;孙健;陈少军 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
代理公司: | 上海交达专利事务所 | 代理人: | 王锡麟;王桂忠 |
地址: | 200240*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种材料制备技术领域的用于纳米压印的真空模压装置,拉伸试验机、精密模具固定系统、温度控制系统、基底、真空压缩机、真空罩,其中,真空罩与基底之间密封结合,真空压缩机与真空罩之间连通,精密模具固定系统由活塞和导轨组成,活塞在导轨内上下滑动,活塞与拉伸试验机中的驱动装置相连,并能沿拉伸试验机的滑槽滑动,导轨的一个侧面固定在拉伸试验机的外壳上,导轨另一侧穿过真空罩的侧壁,并与真空罩之间密封,导轨的底部与基底之间留有空隙以放置硅片,温度控制系统固定在基底上,负责对真空罩内的温度进行控制。本发明使纳米压印过程能顺利精密地完成,其压印的图形最高分辨率可达到20nm。 | ||
搜索关键词: | 用于 纳米 压印 真空 模压 装置 | ||
【主权项】:
1、一种用于纳米压印的真空模压装置,其特征在于,包括:拉伸试验机、精密模具固定系统、温度控制系统、基底、真空压缩机、真空罩,其中,真空罩与基底之间密封结合,真空压缩机与真空罩之间连通,精密模具固定系统由活塞和导轨组成,活塞在导轨内上下滑动,活塞与拉伸试验机中的驱动装置相连,并能沿拉伸试验机的滑槽滑动,导轨的一个侧面固定在拉伸试验机的外壳上,导轨另一侧穿过真空罩的侧壁,并与真空罩之间密封,导轨的底部与基底之间留有空隙以放置硅片,温度控制系统固定在基底上,负责对真空罩内的温度进行控制。
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