[发明专利]使用二维图建立电路布局图中限高区的方法无效

专利信息
申请号: 200810181630.8 申请日: 2008-11-27
公开(公告)号: CN101739481A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 郑永健 申请(专利权)人: 英业达股份有限公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陈亮
地址: 中国台湾台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提出一种使用二维图建立电路布局图中限高区的方法。首先,提供二维图,其中二维图包含具有多个线段的几何封闭曲线,且几何封闭曲线内有文字串。接着,撷取文字串。从文字串的参考座标出发沿第一方向搜寻线段,并将所碰到第一条线段的点纪录为几何封闭曲线的搜寻起点。以顺时钟或逆时钟的方向,从搜寻起点始,沿几何封闭曲线搜寻并纪录所有转角点,直到回到搜寻起点。使用所有转角点的座标,于电路布局图中建立限高区,以及依据文字串,设定限高区的高度参数。
搜索关键词: 使用 二维 建立 电路 布局 图中限高区 方法
【主权项】:
一种使用二维图建立电路布局图中限高区的方法,包括:提供一二维图,其中该二维图包含具有多个线段的一几何封闭曲线,且该几何封闭曲线内有一文字串;撷取该文字串;从该文字串的参考座标出发沿一第一方向搜寻线段,并将所碰到第一条线段的点纪录为该几何封闭曲线的一搜寻起点;以顺时钟或逆时钟的方向,从该搜寻起点始,沿该几何封闭曲线搜寻并纪录所有转角点,直到回到该搜寻起点;使用前述转角点的座标,于一电路布局图中建立一限高区;以及依据该文字串,设定该限高区的高度参数。
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