[发明专利]多层信息记录介质、再现装置、记录装置、再现方法和记录方法有效
申请号: | 200810149074.6 | 申请日: | 2003-01-10 |
公开(公告)号: | CN101510436A | 公开(公告)日: | 2009-08-19 |
发明(设计)人: | 植田宏;伊藤基志;石田隆;山本义一;东海林卫 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | G11B20/18 | 分类号: | G11B20/18;G11B27/32 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 臧霁晨;王小衡 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种多层信息记录介质,包括:多个记录层;在该多个记录层的至少两个中设置的、用于记录用户数据的用户数据区;和用于存储缺陷列表的缺陷列表存储区。当在用户数据区中检测到至少一个缺陷区时,使用该缺陷列表来管理该至少一个缺陷区。仅在所述多个记录层的一个中设置缺陷列表存储区。 | ||
搜索关键词: | 多层 信息 记录 介质 再现 装置 方法 | ||
【主权项】:
1. 一种制造包括多个记录层的多层信息记录介质的制造方法,所述制造方法包括:在所述多个记录层的至少两个中设置用于记录用户数据的用户数据区;和设置用于存储缺陷列表的缺陷列表存储区,所述缺陷列表是管理在所述用户数据区中检测到的缺陷区的信息,其中在所述多个记录层中规定的层中设置所述缺陷列表存储区,和所述缺陷列表是管理在所述规定层中检测到的缺陷区以及在与所述规定层不同的记录层中检测到的缺陷区的信息,其中所述制造方法还包括:在与所述规定层不同的多个记录层中的至少一个中设置备用缺陷列表存储区,当不可使用所述缺陷列表存储区时使用所述备用缺陷列表存储区来记录所述缺陷列表,和设置至少一个含替代区的备用区,其中当在所述用户数据区中检测到缺陷区时,可以使用所述替代区来替代所述缺陷区。
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