[发明专利]光学扫描装置和使用其的成像设备

摘要

一种构造成除去或充分减少重像光的光学扫描装置包括将光束从光源引导到偏转装置的偏转表面的输入光学系统、和将由偏转表面扫描偏转的光束成像到被扫描表面上的成像光学系统，其中在副扫描截面中，光束相对于成像光学系统的光轴从倾斜方向入射到偏转装置的偏转表面上，其中阻挡重像光的遮光构件布置在偏转表面和被扫描表面之间的光路上，其中遮光构件在副扫描方向上的端部形成为在副扫描方向上具有高度的弯曲形状，所述高度按照在主扫描方向上的位置而变化。

主权项

1.一种光学扫描装置，包括：光源装置；具有偏转表面的偏转装置；输入光学系统，其构造成将光束从所述光源装置引导到所述偏转装置的偏转表面；和成像光学系统，其构造成将由所述偏转装置的偏转表面扫描偏转的光束成像到被扫描表面上；其中，在副扫描截面中，待入射到所述偏转装置的偏转表面上的光束相对于所述成像光学系统的光轴从倾斜方向入射到所述偏转表面上，其中构造成阻挡重像光的遮光构件布置在所述偏转表面和所述被扫描表面之间的光路上，并且其中，当所述成像光学系统的光轴与所述遮光构件之间的交点表示为Y＝0，所述遮光构件上沿主扫描方向的任意位置表示为Y[mm]，所述遮光构件沿副扫描方向的端部与一个平面之间的间距表示为h(Y)[mm]，所述平面垂直于所述偏转装置的旋转轴且包含在主扫描方向上的任意位置Y处入射到所述偏转装置的偏转表面上的光束的轴向偏转点，在主扫描方向上的位置Y＝0处的间距表示为h(0)[mm]，间距h(Y)相对于间距h(0)的差被取为所述遮光构件的弯曲量Δh(Y)，在副扫描截面内入射到所述偏转装置的偏转表面上的光束与所述成像光学系统的光轴之间限定的入射角表示为α[rad]，并且在所述平面中从所述轴向偏转点到所述遮光构件的距离表示为L[mm]时，在整个有效扫描区域中所述遮光构件的弯曲量Δh(Y)满足以下条件表达式，$0.5\le \mathrm{\Delta h}\left(Y\right)÷[\tan \alpha \times L\times \{\frac{1}{\mathrm{COS}\left\{\mathrm{ATAN}\left(\frac{\left|Y\right|}{L}\right)\right\}}-1\left\}\right]\le 1.5........\left(1\right)\Delta h(Y)＝|h(Y)-h(0)|................(2)$