[发明专利]荧光二酮吡咯并吡咯无效

专利信息
申请号: 200810091737.3 申请日: 2002-06-20
公开(公告)号: CN101279975A 公开(公告)日: 2008-10-08
发明(设计)人: H·亚马莫托;N·丹;O·瓦尔奎斯特 申请(专利权)人: 西巴特殊化学品控股有限公司
主分类号: C07D487/04 分类号: C07D487/04;C09B57/00;C09K11/06
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 邹雪梅;段家荣
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要: 发明涉及具有结构式(I)的荧光二酮吡咯并吡咯(“DPPs”),其中A1和A2相互独立地表示(II)其中R1,R2和R5-R11定义如权利要求1,一种用于其制备的方法和其用于制备油墨,着色剂,涂料用着色塑料,非冲击-印刷材料,彩色滤光片,化妆品,或用于制备聚合物油墨颗粒,调色剂,染料激光和电致发光设备的应用。具有结构式(I)的荧光二酮吡咯并吡咯(“DPPs”)具有高耐晒牢度,高热稳定性,尤其在塑料中。包含具有结构式(I)的DPP化合物的发光设备具有高电能利用效率,高亮度和高颜色纯度。
搜索关键词: 荧光 吡咯
【主权项】:
1.一种具有结构式I的二酮吡咯并吡咯其中R1和R2可以是相同或不同的和选自C1-C25烷基基团,可被C1-C3烷基取代1-3次的烯丙基基团,环烷基基团,链烯基基团,环链烯基基团,炔基基团,杂环基团,卤素,卤代烷基,卤代链烯基,卤代炔基,酮或醛基团,酯基团,氨基甲酰基基团,甲硅烷基基团,硅氧烷基基团,A3或-CR3R4-(CH2)m-A3,其中R3和R4相互独立地表示氢或C1-C4烷基,或可被C1-C3烷基取代1-3次的苯基,A3表示芳基,尤其是可被C1-C8烷基和/或C1-C8烷氧基取代1-3次的苯基或1-或2-萘基,和m表示0,1,2,3或4,其中C1-C25烷基或-CR3R4-(CH2)m-A3,优选C1-C25烷基可被能够增加水溶解度的官能团,如叔氨基基团,-SO3-或-PO42-取代,A1和A2相互独立地表示其中R5-R11可以是相同或不同的和选自氢,C1-C25烷基基团,环烷基,芳烷基,链烯基,环链烯基,炔基,羟基基团,巯基基团,烷氧基,烷基硫代,芳基醚基团,芳基硫醚基团,芳基,杂环基团,卤素,卤代烷基,卤代链烯基,卤代炔基,氰基基团,醛基团,羰基基团,羧基基团,酯基团,氨基甲酰基基团,氨基基团,烷基氨基基团,二(烷基)氨基基团,硝基基团,甲硅烷基基团,硅氧烷基基团,取代的或未取代的乙烯基基团,取代的或未取代的芳基氨基基团和取代的或未取代的二芳基氨基基团,或至少两个相邻取代基R5-R11形成芳族或脂族稠环体系,前提是至少两个相邻取代基R5-R11形成芳族或脂族稠环体系,或至少一个取代基R5-R11是环烷基,芳烷基,链烯基,环链烯基,炔基,羟基基团,巯基基团,烷基硫代,芳基硫醚基团,杂环基团,卤素,卤代烷基,卤代链烯基,卤代炔基,氰基基团,醛基团,羰基基团,羧基基团,酯基团,氨基甲酰基基团,氨基基团,硝基基团,甲硅烷基基团,硅氧烷基基团,取代的或未取代的乙烯基,芳基氨基或二芳基氨基基团。
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