[发明专利]光学薄膜体及光学薄膜体的制造方法无效
| 申请号： | 200810085406.9 | 申请日： | 2008-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN101281258A | 公开（公告）日： | 2008-10-08 |
| 发明（设计）人： | 高桥博之;宫原则之;高柳利光;夏目洋之;今井贵文;户田尚宏 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;G02B5/30;B32B38/14;G02F1/13357;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明目的是提供一种具有可以容易地确认光轴的轴方向、并且标记在缺陷检查中不会影响检查这样结构的光学薄膜体及该光学薄膜体的制造方法。所述光学薄膜体是在具有光轴的光学薄膜层上层叠保护该光学薄膜层表面的表面保护薄膜而形成的光学薄膜体，其特征在于，在通过印刷，于所述表面保护薄膜上形成与所述光轴相关的光轴信息的情况下，该被印刷的光轴信息即印刷形成物，其周边部位的印刷密度被形成为比该印刷形成物的内部的印刷密度更小。 | ||
| 搜索关键词： | 光学薄膜 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学薄膜体，其是在具有光轴的光学薄膜层上层叠保护该光学薄膜层表面的表面保护薄膜而形成的光学薄膜体，其特征在于，在通过印刷，于所述表面保护薄膜上形成与所述光轴相关的光轴信息的情况下，该被印刷的光轴信息即印刷形成物，其周边部位的印刷密度被形成为比该印刷形成物的内部的印刷密度更小。
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