[发明专利]辐射成像装置和用于控制辐射成像装置的方法和程序有效

专利信息
申请号: 200810082931.5 申请日: 2008-03-13
公开(公告)号: CN101267506A 公开(公告)日: 2008-09-17
发明(设计)人: 横山启吾;远藤忠夫;龟岛登志男;八木朋之;竹中克郎 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: H04N5/32 分类号: H04N5/32;H04N5/30;A61B6/00;G01N23/04;H05G1/30
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 康建忠
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了辐射成像装置和用于控制辐射成像装置的方法和程序。提供了一种辐射成像装置,其稳定成像装置的暗电流、图像重影以及灵敏度,减少光源的功耗和发热,并且改进了转换元件的耐用性。所述辐射成像装置包括:包括转换单元的平板检测器,其中所述转换单元包括布置成矩阵的多个像素,所述像素中的每一个包括能够将辐射射线转换为电荷的转换元件;光源,能够将光发射到所述转换单元;以及控制单元,被配置为控制所述平板检测器和所述光源。所述控制单元基于从所述平板检测器输出的信号控制由所述光源执行的光发射。
搜索关键词: 辐射 成像 装置 用于 控制 方法 程序
【主权项】:
1、一种辐射成像装置,包括:包括转换单元的平板检测器,所述转换单元包括布置成矩阵的多个像素,所述像素中的每一个包括能够将辐射射线转换为电荷的转换元件;光源,能够将光发射到所述转换单元;以及控制单元,被配置为控制所述平板检测器和所述光源,所述控制单元基于从所述平板检测器输出的信号控制由所述光源执行的光发射。
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