[发明专利]成膜装置及成膜方法无效

专利信息
申请号: 200810074070.6 申请日: 2008-02-21
公开(公告)号: CN101249483A 公开(公告)日: 2008-08-27
发明(设计)人: 田中英树;岛村秀男 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: B05B13/04 分类号: B05B13/04;B05C5/02;B05D1/26;B05D3/00;G02B5/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李贵亮
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种可容易地进行处理气氛的控制的成膜装置的构成。通过从涂敷部(113)将液体涂敷在配置于处理室内的基板(100)上而在基板上形成膜的成膜装置具有:划分处理室(107)的壁(107a、107b、107d等)、将涂敷部(113)输送到处理室的第一输送部(105)、基板载物台(103),上述处理室(107)以至少由具有上述壁、上述第一输送部及上述载物台的部位形成闭合空间的形式构成。根据这样的构成,可缩小载物台与涂敷部的距离。因此,可缩小处理室的容量,容易进行内部气氛的控制。例如,在用惰性气体清洗其内部时,可减少清洗所需的时间,还可减小所使用的惰性气体量。
搜索关键词: 装置 方法
【主权项】:
1.一种成膜装置,其通过从涂敷部将液体涂敷在配置于处理室内的基板上而在所述基板上形成膜,其特征在于,具有:用壁划分的所述处理室;临时配置所述涂敷部的涂敷准备室;将所述涂敷部从所述涂敷准备室输送到所述处理室的第一输送部;所述基板的载置台;与所述涂敷准备室邻接设置的维修部。
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