[发明专利]一种连续绕卷式磁控溅射法制造的陶瓷高阻隔膜装置无效
| 申请号： | 200810064558.0 | 申请日： | 2008-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN101353783A | 公开（公告）日： | 2009-01-28 |
| 发明（设计）人： | 孙智慧;林晶;刘壮;高德 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨商业大学 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/35;C23C14/08 |
| 代理公司： | 哈尔滨市哈科专利事务所有限责任公司 | 代理人： | 刘娅 |
| 地址： | 150028黑龙江省哈尔滨*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种连续绕卷式磁控溅射法制造的陶瓷高阻隔膜装置。它包括沉积室、放卷装置、收卷装置、射频交流电源以及设置在沉积室外部的蝶阀、机械泵、罗茨泵和分子泵，沉积室中间装有镀膜辊，下部装有长方形硅靶，沉积室的两端设有封头，在沉积室上至少设有一个观察窗，所述的沉积室的下部通过蝶阀和管道分别连接有机械泵、罗茨泵和分子泵。本发明的特点在于能连续生产，能较好的解决钟罩式或立式沉积装置不能连续生产、生产能力低下、每次都要重新抽真空的问题，利用长方形极靶可充分利用沉积室空间，便于大规模产业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 连续 绕卷式 磁控溅射 法制 陶瓷 阻隔 装置 | ||
【主权项】：
1、一种连续绕卷式磁控溅射法制造的陶瓷高阻隔膜装置，它包括沉积室、放卷装置、收卷装置、射频交流电源，其特征在于它还包括设置在沉积室外部的蝶阀、机械泵、罗茨泵和分子泵，沉积室中间装有镀膜辊，下部装有长方形硅靶，沉积室的两端设有封头，在沉积室上至少设有一个观察窗，所述的沉积室的下部通过蝶阀和管道分别连接有机械泵、罗茨泵和分子泵。
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