[发明专利]一种无机分子簇单源前体合成CdS纳米线的方法无效
申请号: | 200810064236.6 | 申请日: | 2008-04-03 |
公开(公告)号: | CN101254941A | 公开(公告)日: | 2008-09-03 |
发明(设计)人: | 蔡伟;李志国;隋解和 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | C01G11/02 | 分类号: | C01G11/02 |
代理公司: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 | 代理人: | 单军 |
地址: | 150001黑龙江*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 一种无机分子簇单源前体合成CdS纳米线的方法,它涉及一种无机分子簇单源前体合成CdS纳米线的方法。它解决了现有CdS纳米线制备方法需要大型设备、制备温度高、后续处理工艺繁琐、纳米线容易被污染或损伤性能、尺寸和形貌难于控制或者工艺条件苛刻,难于操作,难以工业化大规模实施的问题。制备方法:一、将十六烷基胺真空脱气;二、降低温度、在氮气氛条件下将(Me4N)4[S4Cd10(SPh)16]加入,然后升温、并保温反应;三、降低混合物温度;四、分离、沉淀、干燥。本发明直接用无机分子簇单源前体合成CdS纳米线方法无需大型设备,操作安全、简便、易行、且成本低,便于控制CdS纳米线的尺寸、形貌和性能,易于工业化大规模生产,可重复性好,可一次性进行大剂量CdS纳米线的制备。 | ||
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【主权项】:
1、一种无机分子簇单源前体合成CdS纳米线的方法,其特征在于无机分子簇单源前体合成CdS纳米线的方法按以下步骤进行:一、将25g十六烷基胺在120±5℃的条件下真空脱气2h;二、降低十六烷基胺温度至80±2℃,在氮气氛条件下将1.2g(Me4N)4[S4Cd10(SPh)16]加入十六烷基胺,然后以2℃/min的速度升温至200~240℃,并保持200~240℃5h;三、降低混合物温度至60±2℃;四、用无水甲醇离心分离、沉淀物再真空干燥,即得到CdS纳米线。
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