[发明专利]基于柔性紫外压模的曲面基底多相位微光学元件加工方法无效

专利信息
申请号: 200810063983.8 申请日: 2008-02-04
公开(公告)号: CN101221358A 公开(公告)日: 2008-07-16
发明(设计)人: 金鹏;刘楠;朱鹏;谭久彬 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/20;G02B1/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 150001黑龙江*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 基于柔性紫外压模的曲面基底多相位微光学元件加工方法涉及微光学元件制作技术;该方法增加了以聚合物结构为掩模,应用干法刻蚀技术在基片上获得浮雕结构步骤,完成微细结构向硬质基板表面的图形传递,并且在压印步骤中,软压印模在压印过程所外加的预压力作用下发生弹性形变而弯曲成与被加工表面相近的形状,且变形量的大小可通过有限元仿真的方法计算得到,母板制作步骤中的压模母板表面微细结构的形貌与尺寸需要针对该形变量的大小对进行补偿设计,应用该方法可以实现单一材料曲面基底非聚合物硬质光学材料微光学元件的加工制作。
搜索关键词: 基于 柔性 紫外 曲面 基底 多相 微光 元件 加工 方法
【主权项】:
1.一种基于柔性紫外模的曲面基底多相位微光学元件加工的方法,具体包括以下步骤:①应用微细加工技术制备用于加工曲面基底多相位或连续浮雕结构微光学元件所需的微细结构压模母板;②应用注塑复制技术将母板表面浮雕结构复制到软压印模表面上;③应用紫外压印技术将软压模上的浮雕结构压印到曲面基板表面的聚合物上;其特征在于,该方法还包括以下步骤,④以聚合物结构为掩模,应用干法刻蚀技术在基片上获得浮雕结构,完成微细结构向硬质基板表面的图形传递,并且在步骤③中,软压印模在压印过程所外加的预压力作用下发生弹性形变而弯曲成与被加工表面相近的形状,且变形量的大小可通过有限元仿真的方法计算得到,步骤①中的压模母板表面微细结构的形貌与尺寸需要针对该形变量的大小对进行补偿设计,应用该方法实现单一材料曲面基底非聚合物硬质光学材料微光学元件的加工制作。
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