[发明专利]基于微观层流控制的各向同性材料高深宽比结构刻蚀方法无效
| 申请号： | 200810059489.4 | 申请日： | 2008-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN101224867A | 公开（公告）日： | 2008-07-23 |
| 发明（设计）人： | 谢海波;郑毅;傅新;杨华勇 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | B81C5/00 | 分类号： | B81C5/00 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人： | 林怀禹 |
| 地址： | 310027浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于微观层流控制的各向同性材料高深宽比结构刻蚀方法。通过线切割等传统机械加工工艺加工出三路进口、一路出口的流道阳模，采用PDMS材料以阳模为模具铸造出内流道结构，再将已成型的PDMS与表面抛光的各向同性材料键合，三路进口的中间进口为刻蚀剂入口，另外两路为隔离剂入口，通过控制三路流体的流量比，就可控制各向同性材料表面的刻蚀宽度和刻蚀位置，同时由于隔离剂的存在，使得侧向刻蚀可控，因此所刻蚀的结构深宽比可大于1，可解决各向同性材料的高深宽比微结构加工问题。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 微观 层流 控制 各向同性 材料 高深 结构 刻蚀 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于微观层流控制的各向同性材料高深宽比结构刻蚀方法，其特征在于：通过机械加工工艺加工出三路进口、一路出口的流道阳模，采用PDMS材料以阳模为模具铸造出内流道结构的PDMS薄膜，再将已成型的PDMS薄膜与表面抛光的各向同性材料键合使内流道密封，三路进口的中间进口为刻蚀剂入口，另外两路为隔离剂入口，通过控制三路流体的流量比，控制各向同性材料表面的刻蚀宽度和刻蚀位置，同时由于隔离剂的存在，侧向刻蚀可控，从而实现深宽比大于1的刻蚀方法。
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