[发明专利]一种等离子刻蚀残留物清洗液有效
| 申请号： | 200810042569.9 | 申请日： | 2008-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN101666984A | 公开（公告）日： | 2010-03-10 |
| 发明（设计）人： | 刘兵;彭洪修;彭杏;于昊 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201201上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种等离子刻蚀残留物清洗液，其包含溶剂、水和氟化物，其还含有含颜料亲和基团的星形聚合物。本发明的等离子刻蚀残留物清洗液可以有效去除等离子刻蚀后的光阻残留物、同时可以高效的抑制金属(尤其是铝)和非金属的腐蚀、有较大的清洗和漂洗的操作窗口。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 刻蚀 残留物 清洗 | ||
【主权项】：
1、一种等离子刻蚀残留物清洗液，包含溶剂、水和氟化物，其特征在于：其还含有含颜料亲和基团的星形聚合物。
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