[发明专利]低粘度稳定的非水基磁流变抛光液及其配制方法无效
| 申请号： | 200810031134.4 | 申请日： | 2008-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN101260279A | 公开（公告）日： | 2008-09-10 |
| 发明（设计）人： | 李圣怡;彭小强;戴一帆;陈浩锋;王贵林;吴宇列;尹自强 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科学技术大学 |
| 主分类号： | C09G1/16 | 分类号： | C09G1/16;C09G1/02;H01F1/44 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所 | 代理人： | 陈晖 |
| 地址： | 410073湖南省长沙市砚瓦池正街47号中国*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种低粘度稳定的非水基磁流变抛光液及其配制方法，非水基磁流变抛光液包括占磁流变抛光液总体积的40％～75％的基载液、15％～50％的羰基铁粉、3％～8％的表面活性剂和3％～6％的抛光粉，基载液为二甲基硅油。本发明的配制方法是通过加温、搅拌使表面活性剂充分溶解于基载液中，接着混合磁性颗粒羰基铁粉和基载液混合物，然后采用球磨机球磨装置来分散该混合物，以此来提高磁流变抛光液的抗沉降性和稳定性，最后使配制的磁流变抛光液时刻保持滚动，以此来保持磁流变抛光液特性稳定。本发明所配制的抛光液零磁场粘度低，剪切屈服应力大，流变性能好，适合易潮解光学材料的加工。其配制工艺简单、无毒、成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 粘度 稳定 非水基磁 流变 抛光 及其 配制 方法 | ||
【主权项】：
1、一种低粘度稳定的非水基磁流变抛光液，其特征在于它包括占磁流变抛光液总体积的40％～75％的基载液、15％～50％的羰基铁粉、3％～8％的表面活性剂和3％～6％的抛光粉，所述基载液为二甲基硅油。
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